Filtr ochronny MRC UV K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 43mm

kf-uv-titan-01.jpg
  • nowość
Dostępność: Dostępny
Wysyłka w: 24 godziny
Dostawa: Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności sprawdź formy dostawy
Cena: 139,00 zł 139.00
ilość szt.

towar niedostępny

dodaj do przechowalni
Ocena: 0
Producent: K&F Concept
Kod produktu: KF012458

Opis

Filtr UV Ultra-low Reflection K&F Concept z serii Nano-X skutecznie redukuje dopływ promieniowania ultrafioletowego, zabezpiecza układ optyczny obiektywu przed uszkodzeniami mechanicznymi oraz zanieczyszczeniami w postaci pyłu, kurzu czy wilgoci. Jest przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 43 mm.

Soczewka filtra została wykonana z wysokiej jakości szkła optycznego z wielowarstwową powłoką MRC (Multi Resistant Coating), która skutecznie redukuje odblaski (≤ 0,1%). Zapewnia niezakłócony przekaz obrazu przy zachowaniu naturalności barw i jednoczesnym zwiększeniu ich intensywności oraz kontrastu. Dodatkowe utwardzenie chroni przed powstawaniem odprysków i sprawia, że powierzchnia filtra jest odporna na zarysowania. Ponadto, powlekaną tytanem soczewkę wyróżnia doskonała przepuszczalność światła na poziomie ≥ 99,8%. Filtr K&F Concept cechuje się również wysokim stopniem odporności na wodę i tłuszcz. Dzięki temu na jego powierzchni nie powstają zacieki, a wszelkie zanieczyszczenia – takie jak odciski palców – osadzają się znacznie trudniej i są łatwe do usunięcia.

Ramka montażowa filtra została wykonana z aluminium. Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów. Oprawa charakteryzuje się bardzo niskim profilem (3,3 mm), dzięki czemu filtr może być wykorzystywany również z obiektywami szerokokątnymi.



Cechy

  • Wielopowłokowy filtr MRC UV
  • Antyrefleksyjne powłoki Nano
  • Tytanowa powłoka
  • Skuteczna redukcja promieniowania ultrafioletowego
  • Przepuszczalność światła: ≥ 99,8%
  • Szkło optyczne
  • Aluminiowa ramka
  • Odporność na zacieki i tłuste plamy
  • Łatwe czyszczenie
  • Podwójne gwintowanie
  • Grubość: 3,3 mm
  • Średnica: 43 mm



Zastosowanie

Filtry MRC UV są stosowane w celu ochrony obiektywu przed dopływem promieniowania ultrafioletowego, które może powodować powstawanie nieostrości, zmniejszenie kontrastu i utratę szczegółów na zdjęciach. Filtr K&F Concept Ultra-low Reflection Nano-X umożliwia poprawę jakości obrazu poprzez redukcję efektu zamglenia atmosferycznego oraz eliminację niekorzystnych odblasków. Tworzy on ponadto dodatkową barierę, która chroni soczewkę obiektywu przed kurzem i pyłem, zabrudzeniami, czy uszkodzeniami mechanicznymi. Stanowi niezbędny dodatek dla każdego fotografa, który dba o jakość obrazu i o trwałość swojego sprzętu.

Dane techniczne

Rodzaj Ultrafioletowy (UV)
Materiał Aluminium, szkło optyczne
Sposób montażu Filtr wkręcany (gwintowany)
Średnica 43 mm

Koszty dostawy Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności

Kraj wysyłki:

Produkty powiązane

Opinie o produkcie (0)

Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.

do góry
Sklep jest w trybie podglądu
Pokaż pełną wersję strony
Sklep internetowy Shoper Premium