Filtr ochronny MRC UV K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 77mm

kf-uv-titan-01.jpg
  • nowość
Dostępność: Dostępny
Wysyłka w: 24 godziny
Dostawa: Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności sprawdź formy dostawy
Cena: 159,00 zł 159.00
ilość szt.

towar niedostępny

dodaj do przechowalni
Ocena: 0
Producent: K&F Concept
Kod produktu: KF012467

Opis

MRC UV K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection to wysokiej jakości filtr fotograficzny redukujący dopływ promieni ultrafioletowych do obiektywu. Pełni także funkcję ochronną, zabezpieczając układ optyczny przed uszkodzeniami mechanicznymi, kurzem, pyłem, wilgocią oraz szkodliwym działaniem czynników zewnętrznych. Średnica 77 mm.

Soczewka filtra została wykonana z wysokiej jakości szkła optycznego pokrytego wielowarstwową powłoką MRC (Multi Resistant Coating), która skutecznie redukuje odblaski (≤ 0,1%). Zapewnia niezakłócony przekaz obrazu przy jednoczesnym zachowaniu naturalności barw, zwiększeniu ich intensywności i kontrastu. Dodatkowe utwardzenie chroni przed powstawaniem odprysków i sprawia, że powierzchnia filtra jest odporna na zarysowania. Ponadto, powlekana tytanem soczewka cechuje się doskonałą przepuszczalnością światła na poziomie ≥ 99,8%. Charakteryzuje się także wysokim stopniem odporności na wodę i tłuszcz - na jego powierzchni nie powstają zacieki, a wszelkie zanieczyszczenia są łatwe do usunięcia.

Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów, takich jak inne filtry czy osłony przeciwsłoneczne. Wykonana z aluminium oprawa cechuje się bardzo niskim profilem (3,3 mm), dzięki czemu filtr może być wykorzystywany również z obiektywami szerokokątnymi.



Cechy

  • Wielopowłokowy filtr MRC UV
  • Antyrefleksyjne powłoki Nano
  • Tytanowa powłoka
  • Skuteczna redukcja promieniowania ultrafioletowego
  • Przepuszczalność światła: ≥ 99,8%
  • Szkło optyczne
  • Aluminiowa ramka
  • Odporność na zacieki i tłuste plamy
  • Łatwe czyszczenie
  • Podwójne gwintowanie
  • Grubość: 3,3 mm
  • Średnica: 77 mm



Zastosowanie

Filtry MRC UV są stosowane w celu zniwelowania na zdjęciach zamglenia atmosferycznego, charakterystycznego niebieskiego zafarbu czy niechcianych odblasków. K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection doskonale spisuje się podczas pracy w plenerze - szczególnie w pobliżu zbiorników wodnych czy w górach. Tworzy też dodatkową barierę chroniącą soczewkę obiektywu przed kurzem i pyłem, zabrudzeniami czy uszkodzeniami mechanicznymi. Stanowi niezbędny dodatek dla każdego fotografa, który dba o jakość obrazu i o trwałość swojego sprzętu!

Dane techniczne

Rodzaj Ultrafioletowy (UV)
Materiał Aluminium, szkło optyczne
Sposób montażu Filtr wkręcany (gwintowany)
Średnica 77 mm

Koszty dostawy Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności

Kraj wysyłki:

Produkty powiązane

Opinie o produkcie (0)

Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.

do góry
Sklep jest w trybie podglądu
Pokaż pełną wersję strony
Sklep internetowy Shoper Premium