Filtr ochronny MRC UV K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 82mm

kf-uv-titan-01.jpg
  • nowość
Dostępność: Dostępny
Wysyłka w: 24 godziny
Dostawa: Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności sprawdź formy dostawy
Cena: 209,00 zł 209.00
ilość szt.

towar niedostępny

dodaj do przechowalni
Ocena: 0
Producent: K&F Concept
Kod produktu: KF012468

Opis

Kołowy filtr MRC UV K&F Concept z serii Nano-X Ultra-low Reflection to praktyczne akcesorium zapewniające kompleksową ochronę obiektywu. Zabezpiecza układ optyczny przed uszkodzeniami mechanicznymi, niekorzystnym wpływem czynników zewnętrznych, kurzem, pyłem i wilgocią. Skutecznie redukuje dopływ promieniowania ultrafioletowego. Jest przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 82 mm posiadających standardowe gwintowanie.

Soczewka filtra została wykonana ze szkła optycznego pokrytego wielowarstwową powłoką MRC (Multi Resistant Coating) skutecznie redukującą odblaski (≤ 0,1%). Zapewnia naturalne kolory przy jednoczesnym zwiększeniu ich intensywności oraz kontrastu. Dodatkowe utwardzenie chroni przed powstawaniem odprysków i zarysowań. Ponadto, powlekana tytanem soczewka cechuje się doskonałą przepuszczalnością światła na poziomie ≥ 99,8%. Filtr odznacza się także wysoką odpornością na wodę i tłuszcz - na jego powierzchni nie powstają zacieki, a wszelkie zanieczyszczenia są łatwe do usunięcia.

Szklana soczewka została osadzona w lekkiej, aluminiowej ramce. Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów, takich jak inne filtry czy osłony przeciwsłoneczne. Oprawa charakteryzuje się bardzo niskim profilem (3,3 mm), dzięki czemu filtr może być wykorzystywany również z obiektywami szerokokątnymi.



Cechy

  • Wielopowłokowy filtr MRC UV
  • Antyrefleksyjne powłoki Nano
  • Tytanowa powłoka
  • Skuteczna redukcja promieniowania ultrafioletowego
  • Przepuszczalność światła: ≥ 99,8%
  • Szkło optyczne
  • Aluminiowa ramka
  • Odporność na zacieki i tłuste plamy
  • Łatwe czyszczenie
  • Podwójne gwintowanie
  • Grubość: 3,3 mm
  • Średnica: 82 mm



Zastosowanie

Filtry MRC UV są stosowane w celu ochrony obiektywu przed dopływem promieniowania ultrafioletowego, które może zaburzać ostrość ujęcia, zmniejszać jego kontrast i ilość szczegółów. Filtr K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection umożliwia poprawę jakości obrazu poprzez redukcję efektu zamglenia atmosferycznego oraz eliminację niekorzystnych odblasków. Tworzy ponadto dodatkową barierę, która chroni obiektyw przed zabrudzeniami czy uszkodzeniami mechanicznymi. Stanowi niezbędny dodatek dla każdego fotografa, który dba o jakość obrazu i o trwałość swojego sprzętu.

Dane techniczne

Rodzaj Ultrafioletowy (UV)
Materiał Aluminium, szkło optyczne
Sposób montażu Filtr wkręcany (gwintowany)
Średnica 82 mm

Koszty dostawy Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności

Kraj wysyłki:

Produkty powiązane

Opinie o produkcie (0)

Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.

do góry
Sklep jest w trybie podglądu
Pokaż pełną wersję strony
Sklep internetowy Shoper Premium