Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 43mm
-
zapytaj o produkt
-
poleć znajomemu
-
dodaj opinię
- EAN: 6942052515771
Opis
Odkryj nowy wymiar precyzji dzięki filtrowi CPL (Circular Polarizing Filter) z serii Nano-X Ultra-low Reflection. Stworzony przez markę K&F Concept stanowi niezastąpiony element profesjonalnego zestawu fotograficznego. Zapewnia precyzyjną kontrolę nad światłem i kolorami, umożliwiając tworzenie pełnych szczegółów zdjęć, cechujących się doskonałym kontrastem i naturalnym odwzorowaniem barw. Filtr jest przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 43 mm ze standardowym gwintowaniem.
Filtr jest wykonany z wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC, które w procesie produkcji pokryte zostało wielowarstwową, wzbogaconą o wykorzystanie tytanu, powłoką MRC (Multi Resistant Coating) zabezpieczającą soczewkę przed zarysowaniami i powstawaniem odprysków. Dzięki odporności na wodę oraz tłuszcz na powierzchni filtra nie pozostają zacieki, a wszystkie naturalnie powstające zanieczyszczenia są łatwe do usunięcia. Powłoka MRC skutecznie redukuje odblaski (≤ 0,1%) i zapewnia wysoki stopień transmisji światła (≥ 45%).
Zastosowana technologia sprawia, że filtr eliminuje aż 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu. W praktyce stosowanie filtra CPL umożliwia m.in. redukcję odbić powstających na wodzie czy szkle. Jego obrotowa konstrukcja, składająca się z dwóch nakręconych na siebie pierścieni, pozwala na szybką i precyzyjną zmianę położenia polaryzatorów, a tym samym na niemal natychmiastowe odcięcie dopływu fal o wybranej długości.
Ramka montażowa została wykonana z wytrzymałego stopu magnezu i aluminium. Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów. Profilowane wgłębienia ułatwiają wykonywanie precyzyjnych obrotów. Oprawa cechuje się niskim profilem (5,3 mm), dzięki czemu filtr K&F Concept może być stosowany także z obiektywami szerokokątnymi.
Cechy
- Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
- Antyrefleksyjne powłoki Nano
- Tytanowa powłoka
- Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
- Przepuszczalność światła: ≥ 45%
- Skuteczna redukcja odbić
- Japońskie szkło optyczne AGC
- Aluminiowo-magnezowa ramka
- Odporność na zacieki i tłuste plamy
- Łatwe czyszczenie
- Podwójne gwintowanie
- Grubość: 5,3 mm
- Średnica: 43 mm
Zastosowanie
Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny CPL MRC K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection stanowi narzędzie, które znajduje swoje zastosowanie w wielu rozmaitych dziedzinach fotografii. Będzie niezastąpionym pomocnikiem w fotografii krajobrazowej, architektonicznej, motoryzacyjnej czy produktowej. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach niemetalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. To produkt, który powinien znaleźć się w plecaku każdego fotografa! Nie zapomnij zabrać go ze sobą!
Dane techniczne
Rodzaj | Polaryzacyjny (CPL) |
Materiał | Aluminium, magnez, szkło optyczne |
Sposób montażu | Filtr wkręcany (gwintowany) |
Średnica | 43 mm |
Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.