Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 43mm

kf-cpl-titan-01.jpg
  • nowość
Dostępność: Dostępny
Wysyłka w: 24 godziny
Dostawa: Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności sprawdź formy dostawy
Cena: 129,00 zł 129.00
ilość szt.

towar niedostępny

dodaj do przechowalni
Ocena: 0
Producent: K&F Concept
Kod produktu: KF012471

Opis

Odkryj nowy wymiar precyzji dzięki filtrowi CPL (Circular Polarizing Filter) z serii Nano-X Ultra-low Reflection. Stworzony przez markę K&F Concept stanowi niezastąpiony element profesjonalnego zestawu fotograficznego. Zapewnia precyzyjną kontrolę nad światłem i kolorami, umożliwiając tworzenie pełnych szczegółów zdjęć, cechujących się doskonałym kontrastem i naturalnym odwzorowaniem barw. Filtr jest przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 43 mm ze standardowym gwintowaniem.

Filtr jest wykonany z wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC, które w procesie produkcji pokryte zostało wielowarstwową, wzbogaconą o wykorzystanie tytanu, powłoką MRC (Multi Resistant Coating) zabezpieczającą soczewkę przed zarysowaniami i powstawaniem odprysków. Dzięki odporności na wodę oraz tłuszcz na powierzchni filtra nie pozostają zacieki, a wszystkie naturalnie powstające zanieczyszczenia są łatwe do usunięcia. Powłoka MRC skutecznie redukuje odblaski (≤ 0,1%) i zapewnia wysoki stopień transmisji światła (≥ 45%).

Zastosowana technologia sprawia, że filtr eliminuje aż 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu. W praktyce stosowanie filtra CPL umożliwia m.in. redukcję odbić powstających na wodzie czy szkle. Jego obrotowa konstrukcja, składająca się z dwóch nakręconych na siebie pierścieni, pozwala na szybką i precyzyjną zmianę położenia polaryzatorów, a tym samym na niemal natychmiastowe odcięcie dopływu fal o wybranej długości.

Ramka montażowa została wykonana z wytrzymałego stopu magnezu i aluminium. Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów. Profilowane wgłębienia ułatwiają wykonywanie precyzyjnych obrotów. Oprawa cechuje się niskim profilem (5,3 mm), dzięki czemu filtr K&F Concept może być stosowany także z obiektywami szerokokątnymi.



Cechy

  • Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
  • Antyrefleksyjne powłoki Nano
  • Tytanowa powłoka
  • Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
  • Przepuszczalność światła: ≥ 45%
  • Skuteczna redukcja odbić
  • Japońskie szkło optyczne AGC
  • Aluminiowo-magnezowa ramka
  • Odporność na zacieki i tłuste plamy
  • Łatwe czyszczenie
  • Podwójne gwintowanie
  • Grubość: 5,3 mm
  • Średnica: 43 mm



Zastosowanie

Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny CPL MRC K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection stanowi narzędzie, które znajduje swoje zastosowanie w wielu rozmaitych dziedzinach fotografii. Będzie niezastąpionym pomocnikiem w fotografii krajobrazowej, architektonicznej, motoryzacyjnej czy produktowej. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach niemetalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. To produkt, który powinien znaleźć się w plecaku każdego fotografa! Nie zapomnij zabrać go ze sobą!

Dane techniczne

Rodzaj Polaryzacyjny (CPL)
Materiał Aluminium, magnez, szkło optyczne
Sposób montażu Filtr wkręcany (gwintowany)
Średnica 43 mm

Koszty dostawy Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności

Kraj wysyłki:

Produkty powiązane

Opinie o produkcie (0)

Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.

do góry
Sklep jest w trybie podglądu
Pokaż pełną wersję strony
Sklep internetowy Shoper Premium