Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 46mm

Odkryj nowy wymiar precyzji razem z filtrem polaryzacyjnym CPL Nano-X Ultra-low Reflection (Circular Polarizing Filter). Stworzony przez markę K&F Concept jest jednym z podstawowych akcesoriów fotograficznych. Zapewnia precyzyjną kontrolę nad światłem, umożliwiając tworzenie zdjęć z doskonałym kontrastem i naturalnymi, żywymi kolorami. Jest przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 46 mm.

Filtr został wykonany z wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC, które w procesie produkcji pokryte zostało wielowarstwową, wzbogaconą o wykorzystanie tytanu, powłoką MRC (Multi Resistant Coating). Zastosowanie powłok ochronnych zabezpiecza soczewkę przed zarysowaniami i powstawaniem odprysków. Powłoki olejo- i hydrofobowe odpowiadają za łatwe i wygodne czyszczenie i utrudniają powstawanie zacieków z wody. Powłoka MRC skutecznie redukuje odblaski (≤ 0,1%) i zapewnia przepuszczalność światła na poziomie ≥ 45%.

Filtry serii Ultra-low Reflection eliminują aż 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu umożliwiając m.in. redukcję odbić powstających na wodzie czy szkle. Obrotowa konstrukcja, składająca się z dwóch nakręconych na siebie pierścieni, pozwala na szybką i precyzyjną zmianę polaryzatorów, a tym samym na niemal natychmiastowe odcięcie dopływu fal o wybranej długości.

Ramka montażowa filtra została wykonana z wytrzymałego stopu magnezu i aluminium. Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne korzystanie z innych akcesoriów, a radełkowanie ułatwia skręcanie filtra oraz jego montaż. Oprawa cechuje się niskim profilem (5,3 mm) co pozwala na łączenie filtra także z obiektywami szerokokątnymi.

Cechy

• Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
• Antyrefleksyjne powłoki Nano
• Tytanowa powłoka
• Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
• Przepuszczalność światła: ≥ 45%
• Skuteczna redukcja odbić
• Japońskie szkło optyczne AGC
• Aluminiowo-magnezowa ramka
• Odporność na zacieki i tłuste plamy
• Łatwe czyszczenie
• Podwójne gwintowanie
• Grubość: 5,3 mm
• Średnica: 46 mm

Zastosowanie

Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny CPL MCR K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection to produkt, który powinien znaleźć się na wyposażeniu każdego fotografa i twórcy video. Znajduje swoje zastosowanie w wielu rozmaitych dziedzinach fotografii, takich jak fotografia krajobrazowa, architektoniczna, motoryzacyjna oraz produktowa. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach niemetalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. Sprawdź sam, jaki efekt da na Twoich zdjęciach!