Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 52mm
- zapytaj o produkt
- poleć znajomemu
- dodaj opinię
- EAN: 6942052515801
Opis
Odkryj nowy wymiar fotografii dzięki filtrowi CPL (Circular Polarizing Filter) serii Ultra-low Reflection Nano-X marki K&F Concept. To niezastąpiony element każdego zestawu fotograficznego. Zapewnia precyzyjną kontrolę nad światłem, umożliwiając tworzenie zdjęć pełnych szczegółów oraz nasyconych, kontrastowych kolorów. Filtr jest przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 52 mm posiadających tradycyjne gwintowanie.
Soczewki filtra zostały wykonane z wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC, które w procesie produkcji pokryte zostało wielowarstwową, wzbogaconą o wykorzystanie tytanu, powłoką MRC (Multi Resistant Coating). Naniesione nano-powłoki zabezpieczają soczewki przed zarysowaniami, zmniejszają ryzyko powstawania zabrudzeń z wody i oleju, skutecznie redukują odblaski (≤ 0,1%) i zapewniają przepuszczalność światła na poziomie 45%.
Wykorzystana technologia produkcji sprawia, że filtr eliminuje aż 99,9% promieni świetlnych o określonej polaryzacji, co pozwala to na skuteczną redukcję odbić powstających m.in. na wodzie czy szkle. Obrotowa konstrukcja pierścieni sprawia, że zmiana układu polaryzatorów jest szybka i wygodna, dzięki czemu niemal natychmiastowo jesteśmy w stanie odciąć określone fale.
Ramka montażowa filtra została wykonana z wytrzymałego stopu magnezu i aluminium. Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów. Profilowane wgłębienia ułatwiają wykonywanie precyzyjnych obrotów. Oprawa cechuje się niskim profilem (5,3 mm), co sprawia, że filtr może być także stosowany z obiektywami szerokokątnymi.
Cechy
- Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
- Antyrefleksyjne powłoki Nano
- Tytanowa powłoka
- Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
- Przepuszczalność światła: ≥ 45%
- Skuteczna redukcja odbić
- Japońskie szkło optyczne AGC
- Aluminiowo-magnezowa ramka
- Odporność na zacieki i tłuste plamy
- Łatwe czyszczenie
- Podwójne gwintowanie
- Grubość: 5,3 mm
- Średnica: 52 mm
Zastosowanie
Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny CPL MRC K&F Concept Ultra-low Reflection Nano-X stanowi funkcjonalne i wszechstronne narzędzie, które spełni oczekiwania najbardziej wymagających twórców. Znajdzie zastosowanie w fotografii krajobrazowej, architektonicznej, motoryzacyjnej, produktowej, a nawet kulinarnej! Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach niemetalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. Sprawdź sam, jak wpłynie na Twoje zdjęcia!
Dane techniczne
Rodzaj | Polaryzacyjny (CPL) |
Materiał | Aluminium, magnez, szkło optyczne |
Sposób montażu | Filtr wkręcany (gwintowany) |
Średnica | 52 mm |
Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.