Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 52mm

kf-cpl-titan-01.jpg
  • nowość
Dostępność: Dostępny
Wysyłka w: 24 godziny
Dostawa: Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności sprawdź formy dostawy
Cena: 129,00 zł 129.00
ilość szt.

towar niedostępny

dodaj do przechowalni
Ocena: 0
Producent: K&F Concept
Kod produktu: KF012474

Opis

Odkryj nowy wymiar fotografii dzięki filtrowi CPL (Circular Polarizing Filter) serii Ultra-low Reflection Nano-X marki K&F Concept. To niezastąpiony element każdego zestawu fotograficznego. Zapewnia precyzyjną kontrolę nad światłem, umożliwiając tworzenie zdjęć pełnych szczegółów oraz nasyconych, kontrastowych kolorów. Filtr jest przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 52 mm posiadających tradycyjne gwintowanie.

Soczewki filtra zostały wykonane z wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC, które w procesie produkcji pokryte zostało wielowarstwową, wzbogaconą o wykorzystanie tytanu, powłoką MRC (Multi Resistant Coating). Naniesione nano-powłoki zabezpieczają soczewki przed zarysowaniami, zmniejszają ryzyko powstawania zabrudzeń z wody i oleju, skutecznie redukują odblaski (≤ 0,1%) i zapewniają przepuszczalność światła na poziomie 45%.

Wykorzystana technologia produkcji sprawia, że filtr eliminuje aż 99,9% promieni świetlnych o określonej polaryzacji, co pozwala to na skuteczną redukcję odbić powstających m.in. na wodzie czy szkle. Obrotowa konstrukcja pierścieni sprawia, że zmiana układu polaryzatorów jest szybka i wygodna, dzięki czemu niemal natychmiastowo jesteśmy w stanie odciąć określone fale.

Ramka montażowa filtra została wykonana z wytrzymałego stopu magnezu i aluminium. Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów. Profilowane wgłębienia ułatwiają wykonywanie precyzyjnych obrotów. Oprawa cechuje się niskim profilem (5,3 mm), co sprawia, że filtr może być także stosowany z obiektywami szerokokątnymi. 



Cechy

  • Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
  • Antyrefleksyjne powłoki Nano
  • Tytanowa powłoka
  • Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
  • Przepuszczalność światła: ≥ 45%
  • Skuteczna redukcja odbić
  • Japońskie szkło optyczne AGC
  • Aluminiowo-magnezowa ramka
  • Odporność na zacieki i tłuste plamy
  • Łatwe czyszczenie
  • Podwójne gwintowanie
  • Grubość: 5,3 mm
  • Średnica: 52 mm



Zastosowanie

Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny CPL MRC K&F Concept Ultra-low Reflection Nano-X stanowi funkcjonalne i wszechstronne narzędzie, które spełni oczekiwania najbardziej wymagających twórców. Znajdzie zastosowanie w fotografii krajobrazowej, architektonicznej, motoryzacyjnej, produktowej, a nawet kulinarnej! Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach niemetalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. Sprawdź sam, jak wpłynie na Twoje zdjęcia!

Dane techniczne

Rodzaj Polaryzacyjny (CPL)
Materiał Aluminium, magnez, szkło optyczne
Sposób montażu Filtr wkręcany (gwintowany)
Średnica 52 mm

Koszty dostawy Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności

Kraj wysyłki:

Produkty powiązane

Opinie o produkcie (0)

Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.

do góry
Sklep jest w trybie podglądu
Pokaż pełną wersję strony
Sklep internetowy Shoper Premium