Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 55mm

kf-cpl-titan-01.jpg
  • nowość
Dostępność: Dostępny
Wysyłka w: 24 godziny
Dostawa: Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności sprawdź formy dostawy
Cena: 149,00 zł 149.00
ilość szt.

towar niedostępny

dodaj do przechowalni
Ocena: 0
Producent: K&F Concept
Kod produktu: KF012475

Opis

Wejdź na wyższy poziom fotografii razem z filtrem polaryzacyjnym CPL (Circular Polarizing Filter) K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection. Przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 55 mm stanowi niezastąpiony element profesjonalnego zestawu fotograficznego. Zapewnia precyzyjną kontrolę nad światłem i umożliwia tworzenie zdjęć pełnych szczegółów i naturalnych, nasyconych kolorów.

Filtr jest wykonany z wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC, które w procesie produkcji pokryte zostało licznymi nano-powłokami, wzbogaconymi o specjalną warstwę tytanową. Technologia MRC (Multi Resistant Coating) zabezpiecza soczewkę przed zarysowaniami i powstawaniem odprysków, zwiększa odporność na wodę oraz tłuszcz, redukuje odblaski (≤ 0,1%) i zapewnia przepuszczalność światła na poziomie 45%.

Filtr eliminuje aż 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu. Jego użycie umożliwia m.in. redukcję odbić powstających na wodzie, szkle, czy powierzchniach niemetalicznych. Obrotowa konstrukcja, składająca się z dwóch pierścieni, pozwala na szybką i precyzyjną zmianę położenia polaryzatorów, a tym samym na niemal natychmiastowe odcięcie fal o wybranej długości.

Ramka montażowa filtra została wykonana z aluminium i magnezu. Jej podwójne gwintowanie umożliwia stosowanie dodatkowych akcesoriów, takich jak inne filtry czy osłony przeciwsłoneczne. Gęste radełkowanie ułatwia obracanie filtrem, jego montaż i demontaż. Oprawa cechuje się niskim profilem (5,3 mm), dzięki czemu świetnie współpracuje także z obiektywami szerokokątnymi. 



Cechy

  • Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
  • Antyrefleksyjne powłoki Nano
  • Tytanowa powłoka
  • Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
  • Przepuszczalność światła: ≥ 45%
  • Skuteczna redukcja odbić
  • Japońskie szkło optyczne AGC
  • Aluminiowo-magnezowa ramka
  • Odporność na zacieki i tłuste plamy
  • Łatwe czyszczenie
  • Podwójne gwintowanie
  • Grubość: 5,3 mm
  • Średnica: 55 mm



Zastosowanie

Filtr polaryzacyjny CPL MRC K&F Concept Ultra-low Reflection Nano-X spełnia najwyższe standardy branżowe. Znajduje zastosowanie w wielu dziedzinach fotografii: krajobrazowej, architektonicznej, motoryzacyjnej, kulinarnej czy produktowej. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach metalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. Filtr K&F Concept posiada liczne powłoki ochronne, które zabezpieczają powierzchnie soczewki przed uszkodzeniami mechanicznymi i osadzaniem się zanieczyszczeń. To zaawansowane i użyteczne akcesorium, które sprawdzi się w niemal każdym scenariuszu.

Dane techniczne

Rodzaj Polaryzacyjny (CPL)
Materiał Aluminium, magnez, szkło optyczne
Sposób montażu Filtr wkręcany (gwintowany)
Średnica 55 mm

Koszty dostawy Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności

Kraj wysyłki:

Produkty powiązane

Opinie o produkcie (0)

Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.

do góry
Sklep jest w trybie podglądu
Pokaż pełną wersję strony
Sklep internetowy Shoper Premium