Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 55mm
- zapytaj o produkt
- poleć znajomemu
- dodaj opinię
- EAN: 6942052515818
Opis
Wejdź na wyższy poziom fotografii razem z filtrem polaryzacyjnym CPL (Circular Polarizing Filter) K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection. Przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 55 mm stanowi niezastąpiony element profesjonalnego zestawu fotograficznego. Zapewnia precyzyjną kontrolę nad światłem i umożliwia tworzenie zdjęć pełnych szczegółów i naturalnych, nasyconych kolorów.
Filtr jest wykonany z wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC, które w procesie produkcji pokryte zostało licznymi nano-powłokami, wzbogaconymi o specjalną warstwę tytanową. Technologia MRC (Multi Resistant Coating) zabezpiecza soczewkę przed zarysowaniami i powstawaniem odprysków, zwiększa odporność na wodę oraz tłuszcz, redukuje odblaski (≤ 0,1%) i zapewnia przepuszczalność światła na poziomie 45%.
Filtr eliminuje aż 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu. Jego użycie umożliwia m.in. redukcję odbić powstających na wodzie, szkle, czy powierzchniach niemetalicznych. Obrotowa konstrukcja, składająca się z dwóch pierścieni, pozwala na szybką i precyzyjną zmianę położenia polaryzatorów, a tym samym na niemal natychmiastowe odcięcie fal o wybranej długości.
Ramka montażowa filtra została wykonana z aluminium i magnezu. Jej podwójne gwintowanie umożliwia stosowanie dodatkowych akcesoriów, takich jak inne filtry czy osłony przeciwsłoneczne. Gęste radełkowanie ułatwia obracanie filtrem, jego montaż i demontaż. Oprawa cechuje się niskim profilem (5,3 mm), dzięki czemu świetnie współpracuje także z obiektywami szerokokątnymi.
Cechy
- Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
- Antyrefleksyjne powłoki Nano
- Tytanowa powłoka
- Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
- Przepuszczalność światła: ≥ 45%
- Skuteczna redukcja odbić
- Japońskie szkło optyczne AGC
- Aluminiowo-magnezowa ramka
- Odporność na zacieki i tłuste plamy
- Łatwe czyszczenie
- Podwójne gwintowanie
- Grubość: 5,3 mm
- Średnica: 55 mm
Zastosowanie
Filtr polaryzacyjny CPL MRC K&F Concept Ultra-low Reflection Nano-X spełnia najwyższe standardy branżowe. Znajduje zastosowanie w wielu dziedzinach fotografii: krajobrazowej, architektonicznej, motoryzacyjnej, kulinarnej czy produktowej. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach metalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. Filtr K&F Concept posiada liczne powłoki ochronne, które zabezpieczają powierzchnie soczewki przed uszkodzeniami mechanicznymi i osadzaniem się zanieczyszczeń. To zaawansowane i użyteczne akcesorium, które sprawdzi się w niemal każdym scenariuszu.
Dane techniczne
Rodzaj | Polaryzacyjny (CPL) |
Materiał | Aluminium, magnez, szkło optyczne |
Sposób montażu | Filtr wkręcany (gwintowany) |
Średnica | 55 mm |
Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.