Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 62mm

K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection to innowacyjny, wielopowłokowy filtr polaryzacyjny stworzony z myślą o najbardziej wymagających fotografach. Stanowi podstawowy i nieraz wręcz niezastąpiony element profesjonalnego zestawu fotograficznego. Umożliwia kontrolę nad światłem, rejestrowanie większej ilości szczegółów na zdjęciach, wydobycie nasyconych barw oraz poprawę kontrastu. Przeznaczony do montażu na obiektywach posiadających standardowe gwintowanie o średnicy 62 mm. 

Filtry serii Ultra-low Reflection powstają z wykorzystaniem wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC, pokrywanego wielowarstwową powłoką MRC (Multi Resistant Coating) z domieszką tytanu. Zabezpiecza to soczewki przed zarysowaniami i powstawaniem odprysków, a także zwiększa odporność na osadzanie się zanieczyszczeń z wody i oleju. Nano-powłoki skutecznie redukują odblaski (≤ 0,1%) i zapewniają przepuszczalność światła na poziomie 45%.

Innowacyjna technologia produkcji sprawia, że filtry eliminują aż 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu, umożliwiając tym samym skuteczną redukcję odbić pojawiających się na szkle, wodzie, czy różnego rodzaju powierzchniach niemetalicznych. Obrotowa konstrukcja filtrów przekłada się na szybką i łatwą zmianę wzajemnego położenia polaryzatorów, a - co za tym idzie - odcięcie fal tylko o określonej długości.

Szklane soczewki są osadzone w wytrzymałej ramce ze stopu magnezu i aluminium. Gęste radełkowanie ułatwia montaż i demontaż filtra, a podwójne gwintowanie jednoczesne stosowanie innych akcesoriów. Ramka filtra ma grubość 5,3 mm, dzięki czemu polaryzator może być używany również z obiektywami szerokokątnymi.

Cechy

• Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
• Antyrefleksyjne powłoki Nano
• Tytanowa powłoka
• Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
• Przepuszczalność światła: ≥ 45%
• Skuteczna redukcja odbić
• Japońskie szkło optyczne AGC
• Aluminiowo-magnezowa ramka
• Odporność na zacieki i tłuste plamy
• Łatwe czyszczenie
• Podwójne gwintowanie
• Grubość: 5,3 mm
• Średnica: 62 mm

Zastosowanie

Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny CPL MRC K&F Concept Nano-X stanowi funkcjonalne akcesorium, znajdujące zastosowanie w wielu rozmaitych dziedzinach fotografii, takich jak fotografia krajobrazowa, architektoniczna, motoryzacyjna, czy produktowa. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach metalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. Filtr K&F Concept posiada liczne powłoki ochronne, które zabezpieczają powierzchnie soczewki przed uszkodzeniami mechanicznymi i osadzaniem się zanieczyszczeń. To zaawansowane i użyteczne akcesorium, które sprawdzi się w niemal każdym scenariuszu.