Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 62mm

kf-cpl-titan-01.jpg
  • nowość
Dostępność: Dostępny
Wysyłka w: 24 godziny
Dostawa: Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności sprawdź formy dostawy
Cena: 179,00 zł 179.00
ilość szt.

towar niedostępny

dodaj do przechowalni
Ocena: 0
Producent: K&F Concept
Kod produktu: KF012477

Opis

K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection to innowacyjny, wielopowłokowy filtr polaryzacyjny stworzony z myślą o najbardziej wymagających fotografach. Stanowi podstawowy i nieraz wręcz niezastąpiony element profesjonalnego zestawu fotograficznego. Umożliwia kontrolę nad światłem, rejestrowanie większej ilości szczegółów na zdjęciach, wydobycie nasyconych barw oraz poprawę kontrastu. Przeznaczony do montażu na obiektywach posiadających standardowe gwintowanie o średnicy 62 mm

Filtry serii Ultra-low Reflection powstają z wykorzystaniem wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC, pokrywanego wielowarstwową powłoką MRC (Multi Resistant Coating) z domieszką tytanu. Zabezpiecza to soczewki przed zarysowaniami i powstawaniem odprysków, a także zwiększa odporność na osadzanie się zanieczyszczeń z wody i oleju. Nano-powłoki skutecznie redukują odblaski (≤ 0,1%) i zapewniają przepuszczalność światła na poziomie 45%.

Innowacyjna technologia produkcji sprawia, że filtry eliminują aż 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu, umożliwiając tym samym skuteczną redukcję odbić pojawiających się na szkle, wodzie, czy różnego rodzaju powierzchniach niemetalicznych. Obrotowa konstrukcja filtrów przekłada się na szybką i łatwą zmianę wzajemnego położenia polaryzatorów, a - co za tym idzie - odcięcie fal tylko o określonej długości.

Szklane soczewki są osadzone w wytrzymałej ramce ze stopu magnezu i aluminium. Gęste radełkowanie ułatwia montaż i demontaż filtra, a podwójne gwintowanie jednoczesne stosowanie innych akcesoriów. Ramka filtra ma grubość 5,3 mm, dzięki czemu polaryzator może być używany również z obiektywami szerokokątnymi.



Cechy

  • Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
  • Antyrefleksyjne powłoki Nano
  • Tytanowa powłoka
  • Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
  • Przepuszczalność światła: ≥ 45%
  • Skuteczna redukcja odbić
  • Japońskie szkło optyczne AGC
  • Aluminiowo-magnezowa ramka
  • Odporność na zacieki i tłuste plamy
  • Łatwe czyszczenie
  • Podwójne gwintowanie
  • Grubość: 5,3 mm
  • Średnica: 62 mm



Zastosowanie

Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny CPL MRC K&F Concept Nano-X stanowi funkcjonalne akcesorium, znajdujące zastosowanie w wielu rozmaitych dziedzinach fotografii, takich jak fotografia krajobrazowa, architektoniczna, motoryzacyjna, czy produktowa. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach metalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. Filtr K&F Concept posiada liczne powłoki ochronne, które zabezpieczają powierzchnie soczewki przed uszkodzeniami mechanicznymi i osadzaniem się zanieczyszczeń. To zaawansowane i użyteczne akcesorium, które sprawdzi się w niemal każdym scenariuszu.

Dane techniczne

Rodzaj Polaryzacyjny (CPL)
Materiał Aluminium, magnez, szkło optyczne
Sposób montażu Filtr wkręcany (gwintowany)
Średnica 62 mm

Koszty dostawy Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności

Kraj wysyłki:

Produkty powiązane

Opinie o produkcie (0)

Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.

do góry
Sklep jest w trybie podglądu
Pokaż pełną wersję strony
Sklep internetowy Shoper Premium