Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 67mm
- zapytaj o produkt
- poleć znajomemu
- dodaj opinię
- EAN: 5904647821989
Opis
Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection to wysokiej jakości akcesorium stanowiące niezbędny element wyposażenia każdego fotografa. Zapewnia precyzyjną kontrolę nad światłem, redukcję niechcianych odblasków, mocniejsze wysycenie kolorów i wydobycie szczegółów niewidocznych dla ludzkiego oka. Przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 67 mm.
Do produkcji filtrów serii Ultra-low Reflection użyto wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC. Soczewki zostały pokryte licznymi nano-powłokami wzbogaconymi domieszką tytanu. Technologia MRC (Multi Resistant Coating) zabezpiecza je przed zarysowaniami i odpryskami, podnosi ich odporność na wodę oraz tłuszcz, utrudnia osadzanie się zanieczyszczeń, a także skutecznie redukuje odblaski (≤ 0,1%) i zapewnia przepuszczalność światła na poziomie 45%.
Filtr eliminuje do 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu. Pozwala to m.in. zniwelować odbicia pojawiające się na wodzie, szkle, czy innych powierzchniach niemetalicznych. Złożony z dwóch pierścieni filtr jest swobodnie obracany, co pozwala odciąć jedynie określone fale światła.
Ramka filtra została wykonana z lekkiego, ale wytrzymałego stopu magnezu i aluminium. Jest podwójnie gwintowana, co umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów. Profilowane wgłębienia ułatwiają montaż i demontaż filtra. Oprawa cechuje się niskim profilem (5,3 mm), co przekłada się dobrą współpracę także z obiektywami szerokokątnymi.
Cechy
- Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
- Antyrefleksyjne powłoki Nano
- Tytanowa powłoka
- Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
- Przepuszczalność światła: ≥ 45%
- Skuteczna redukcja odbić
- Japońskie szkło optyczne AGC
- Aluminiowo-magnezowa ramka
- Odporność na zacieki i tłuste plamy
- Łatwe czyszczenie
- Podwójne gwintowanie
- Grubość: 5,3 mm
- Średnica: 67 mm
Zastosowanie
Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny CPL MRC K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection to niezawodne akcesorium fotograficzne, które powinno towarzyszyć każdemu twórcy specjalizującemu się w zdjęciach krajobrazowych czy produktowych. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach metalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. Filtr K&F Concept posiada liczne powłoki ochronne, które zabezpieczają powierzchnie soczewki przed uszkodzeniami mechanicznymi i osadzaniem się zanieczyszczeń. To zaawansowane i użyteczne akcesorium, które sprawdzi się w niemal każdym scenariuszu.
Dane techniczne
Rodzaj | Polaryzacyjny (CPL) |
Materiał | Aluminium, magnez, szkło optyczne |
Sposób montażu | Filtr wkręcany (gwintowany) |
Średnica | 67 mm |
Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.