Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 67mm

kf-cpl-titan-01.jpg
  • nowość
Dostępność: Dostępny
Wysyłka w: 24 godziny
Dostawa: Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności sprawdź formy dostawy
Cena: 209,00 zł 209.00
ilość szt.

towar niedostępny

dodaj do przechowalni
Ocena: 0
Producent: K&F Concept
Kod produktu: KF012478

Opis

Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection to wysokiej jakości akcesorium stanowiące niezbędny element wyposażenia każdego fotografa. Zapewnia precyzyjną kontrolę nad światłem, redukcję niechcianych odblasków, mocniejsze wysycenie kolorów i wydobycie szczegółów niewidocznych dla ludzkiego oka. Przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 67 mm.

Do produkcji filtrów serii Ultra-low Reflection użyto wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC. Soczewki zostały pokryte licznymi nano-powłokami wzbogaconymi domieszką tytanu. Technologia MRC (Multi Resistant Coating) zabezpiecza je przed zarysowaniami i odpryskami, podnosi ich odporność na wodę oraz tłuszcz, utrudnia osadzanie się zanieczyszczeń, a także skutecznie redukuje odblaski (≤ 0,1%) i zapewnia przepuszczalność światła na poziomie 45%.

Filtr eliminuje do 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu. Pozwala to m.in. zniwelować odbicia pojawiające się na wodzie, szkle, czy innych powierzchniach niemetalicznych. Złożony z dwóch pierścieni filtr jest swobodnie obracany, co pozwala odciąć jedynie określone fale światła.

Ramka filtra została wykonana z lekkiego, ale wytrzymałego stopu magnezu i aluminium. Jest podwójnie gwintowana, co umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów. Profilowane wgłębienia ułatwiają montaż i demontaż filtra. Oprawa cechuje się niskim profilem (5,3 mm), co przekłada się dobrą współpracę także z obiektywami szerokokątnymi.



Cechy

  • Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
  • Antyrefleksyjne powłoki Nano
  • Tytanowa powłoka
  • Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
  • Przepuszczalność światła: ≥ 45%
  • Skuteczna redukcja odbić
  • Japońskie szkło optyczne AGC
  • Aluminiowo-magnezowa ramka
  • Odporność na zacieki i tłuste plamy
  • Łatwe czyszczenie
  • Podwójne gwintowanie
  • Grubość: 5,3 mm
  • Średnica: 67 mm



Zastosowanie

Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny CPL MRC K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection to niezawodne akcesorium fotograficzne, które powinno towarzyszyć każdemu twórcy specjalizującemu się w zdjęciach krajobrazowych czy produktowych. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach metalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. Filtr K&F Concept posiada liczne powłoki ochronne, które zabezpieczają powierzchnie soczewki przed uszkodzeniami mechanicznymi i osadzaniem się zanieczyszczeń. To zaawansowane i użyteczne akcesorium, które sprawdzi się w niemal każdym scenariuszu.

Dane techniczne

Rodzaj Polaryzacyjny (CPL)
Materiał Aluminium, magnez, szkło optyczne
Sposób montażu Filtr wkręcany (gwintowany)
Średnica 67 mm

Koszty dostawy Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności

Kraj wysyłki:

Produkty powiązane

Opinie o produkcie (0)

Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.

do góry
Sklep jest w trybie podglądu
Pokaż pełną wersję strony
Sklep internetowy Shoper Premium