Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 67mm

Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection to wysokiej jakości akcesorium stanowiące niezbędny element wyposażenia każdego fotografa. Zapewnia precyzyjną kontrolę nad światłem, redukcję niechcianych odblasków, mocniejsze wysycenie kolorów i wydobycie szczegółów niewidocznych dla ludzkiego oka. Przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 67 mm.

Do produkcji filtrów serii Ultra-low Reflection użyto wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC. Soczewki zostały pokryte licznymi nano-powłokami wzbogaconymi domieszką tytanu. Technologia MRC (Multi Resistant Coating) zabezpiecza je przed zarysowaniami i odpryskami, podnosi ich odporność na wodę oraz tłuszcz, utrudnia osadzanie się zanieczyszczeń, a także skutecznie redukuje odblaski (≤ 0,1%) i zapewnia przepuszczalność światła na poziomie 45%.

Filtr eliminuje do 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu. Pozwala to m.in. zniwelować odbicia pojawiające się na wodzie, szkle, czy innych powierzchniach niemetalicznych. Złożony z dwóch pierścieni filtr jest swobodnie obracany, co pozwala odciąć jedynie określone fale światła.

Ramka filtra została wykonana z lekkiego, ale wytrzymałego stopu magnezu i aluminium. Jest podwójnie gwintowana, co umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów. Profilowane wgłębienia ułatwiają montaż i demontaż filtra. Oprawa cechuje się niskim profilem (5,3 mm), co przekłada się dobrą współpracę także z obiektywami szerokokątnymi.

Cechy

• Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
• Antyrefleksyjne powłoki Nano
• Tytanowa powłoka
• Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
• Przepuszczalność światła: ≥ 45%
• Skuteczna redukcja odbić
• Japońskie szkło optyczne AGC
• Aluminiowo-magnezowa ramka
• Odporność na zacieki i tłuste plamy
• Łatwe czyszczenie
• Podwójne gwintowanie
• Grubość: 5,3 mm
• Średnica: 67 mm

Zastosowanie

Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny CPL MRC K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection to niezawodne akcesorium fotograficzne, które powinno towarzyszyć każdemu twórcy specjalizującemu się w zdjęciach krajobrazowych czy produktowych. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach metalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. Filtr K&F Concept posiada liczne powłoki ochronne, które zabezpieczają powierzchnie soczewki przed uszkodzeniami mechanicznymi i osadzaniem się zanieczyszczeń. To zaawansowane i użyteczne akcesorium, które sprawdzi się w niemal każdym scenariuszu.