Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 72mm

Odkryj nowy wymiar fotografii wraz z filtrem polaryzacyjnym CPL (Circular Polarizing Filter) K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection. To niezastąpiony element każdego zestawu fotograficznego zapewniający precyzyjną kontrolę nad światłem i umożliwiający tworzenie zdjęć pełnych szczegółów i o atrakcyjnie nasyconych, naturalnych kolorach. Filtr jest przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 72 mm posiadających standardowe gwintowanie.

Do produkcji filtra użyto japońskiego szkła optycznego AGC, pokrytego licznymi nano-powłokami oraz specjalną warstwą tytanową. Technologia MRC (Multi Resistant Coating) zwiększa wytrzymałość soczewki, chroni ją przed zarysowaniami i odpryskami, utrudnia osadzanie się zanieczyszczeń z wody i oleju, redukuje odblaski (≤ 0,1%) i zapewnia przepuszczalność światła na poziomie 45%.

Filtr eliminuje do 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu. Stosowanie filtra CPL umożliwia m.in. redukcję odbić powstających na wodzie, szkle i powierzchniach niemetalicznych. Jego obrotowa konstrukcja pozwala na szybką i precyzyjną zmianę położenia polaryzatorów, a tym samym na niemal natychmiastowe odcięcie dopływu fal o wybranej długości i częstotliwości.

Ramka montażowa filtra została wykonana ze stopu magnezu i aluminium. Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów, takich jak inne filtry, czy osłony przeciwsłoneczne. Gęste radełkowanie ułatwia montaż i demontaż. Oprawa cechuje się niskim profilem (5,3 mm), przez co filtr doskonale spisuje się również z obiektywami szerokokątnymi.

Cechy

• Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
• Antyrefleksyjne powłoki Nano
• Tytanowa powłoka
• Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
• Przepuszczalność światła: ≥ 45%
• Skuteczna redukcja odbić
• Japońskie szkło optyczne AGC
• Aluminiowo-magnezowa ramka
• Odporność na zacieki i tłuste plamy
• Łatwe czyszczenie
• Podwójne gwintowanie
• Grubość: 5,3 mm
• Średnica: 72 mm

Zastosowanie

Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X stanowi niezbędny element wyposażenia każdego fotografa i twórcy video. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach niemetalicznych, dzięki czemu doskonale spisuje się w fotografii krajobrazowej, miejskiej czy produktowej. Pozwala także na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. To zaawansowane i użyteczne akcesorium, które sprawdzi się w niemal każdym scenariuszu!