Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 77mm
-
zapytaj o produkt
-
poleć znajomemu
-
dodaj opinię
- EAN: 5904647822016
Opis
Rozpocznij nowy rozdział fotografii razem z filtrem polaryzacyjnym CPL (Circular Polarizing Filter) Nano-X Ultra-low Reflection. Stworzony przez markę K&F Concept stanowi jeden z najważniejszych elementów wyposażenia każdego fotografa produktowego, krajobrazowego czy przyrodniczego. Umożliwia precyzyjną kontrolę nad światłem, rejestrację elementów niewidocznych gołym okiem oraz atrakcyjne wysycenie barw i kontrastu. Jest przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 77 mm.
Filtr jest wykonany z wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC, które w procesie produkcji zostało pokryte licznymi nano-powłokami, wzbogaconymi domieszką tytanu. Technologia MRC (Multi Resistant Coating) zabezpiecza soczewkę przed zarysowaniami i powstawaniem odprysków. Dzięki odporności na wodę oraz tłuszcz na powierzchni filtra nie pozostają zacieki, a wszystkie zanieczyszczenia osadzają się znacznie trudniej i są łatwe do usunięcia. Powłoka skutecznie redukuje odblaski (≤ 0,1%) i zapewnia transmisję światła na poziomie 45%.
Technologia produkcji sprawia, że filtr eliminuje aż 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu. Tym samym umożliwia m.in. skuteczną redukcję odbić powstających na wodzie, szkle, czy powierzchniach niemetalicznych. Jego obrotowa konstrukcja, składająca się z dwóch nakręconych na siebie pierścieni, pozwala na szybką i precyzyjną zmianę położenia polaryzatorów, a tym samym na natychmiastowe odcięcie dopływu fal o wybranej długości.
Ramka filtra została wykonana z magnezu i aluminium. Podwójne gwintowanie umożliwia stosowanie dodatkowych akcesoriów, takich jak inne filtry lub osłony przeciwsłoneczne. Profilowane wgłębienia ułatwiają montaż i demontaż filtra. Oprawa cechuje się niskim profilem (5,3 mm), co sprzyja łączeniu z obiektywami szerokokątnymi.
Cechy
- Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
- Antyrefleksyjne powłoki Nano
- Tytanowa powłoka
- Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
- Przepuszczalność światła: ≥ 45%
- Skuteczna redukcja odbić
- Japońskie szkło optyczne AGC
- Aluminiowo-magnezowa ramka
- Odporność na zacieki i tłuste plamy
- Łatwe czyszczenie
- Podwójne gwintowanie
- Grubość: 5,3 mm
- Średnica: 77 mm
Zastosowanie
Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny CPL MRC K&F Concept Nano-X stanowi funkcjonalne narzędzie, które znajduje swoje zastosowanie w wielu rozmaitych dziedzinach fotografii, takich jak fotografia krajobrazowa, architektoniczna, motoryzacyjna, czy produktowa. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach metalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. Filtr K&F Concept posiada liczne powłoki ochronne, które zabezpieczają powierzchnie soczewki przed uszkodzeniami mechanicznymi i osadzaniem się zanieczyszczeń. To zaawansowane i użyteczne akcesorium, które sprawdzi się w niemal każdym scenariuszu.
Dane techniczne
Rodzaj | Polaryzacyjny (CPL) |
Materiał | Aluminium, magnez, szkło optyczne |
Sposób montażu | Filtr wkręcany (gwintowany) |
Średnica | 77 mm |
Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.