Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 82mm

Doświadcz nowych możliwości fotografii dzięki filtrowi CPL (Circular Polarizing Filter) Nano-X Ultra-low Reflection. Zaprojektowany przez markę K&F Concept stanowi niezastąpione akcesorium w rękach każdego fotografa krajobrazowego czy produktowego. Zapewnia precyzyjną kontrolę nad światłem i umożliwia rejestrację większej ilości szczegółów na zdjęciach. Delikatnie podkreśla także nasycenie kolorów i kontrast. Jest przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 82 mm.

Filtr jest wykonany z wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC, które w procesie produkcji pokryte zostało wielowarstwową, wzbogaconą o wykorzystanie tytanu, powłoką MRC (Multi Resistant Coating) zabezpieczającą soczewkę przed zarysowaniami i powstawaniem odprysków. Dzięki odporności na wodę oraz tłuszcz na powierzchni filtra nie pozostają zacieki, a wszystkie naturalnie powstające zanieczyszczenia osadzają się znacznie trudniej i są łatwe do usunięcia. Powłoka MRC skutecznie redukuje odblaski (≤ 0,1%) i zapewnia przepuszczalność światła na poziomie 45%.

Zastosowana technologia sprawia, że filtr eliminuje aż 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu. W praktyce, stosowanie filtra CPL umożliwia m.in. redukcję odbić powstających na powierzchniach niemetalicznych, szkle czy wodzie. Jego obrotowa konstrukcja, składająca się z dwóch nakręconych na siebie pierścieni, pozwala na szybką i precyzyjną zmianę polaryzatorów, a tym samym na niemal natychmiastowe odcięcie dopływu fal o określonej charakterystyce.

Ramka filtra została wykonana ze stopu magnezu i aluminium. Jej podwójne gwintowanie umożliwia stosowanie dodatkowych akcesoriów, takich jak inne filtry czy osłony przeciwsłoneczne. Profilowane wgłębienia ułatwiają obracanie filtrem, jego montaż i demontaż. Oprawa cechuje się niskim profilem (5,3 mm), co przekłada się dobrą współpracę także z obiektywami szerokokątnymi.

Cechy

• Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
• Antyrefleksyjne powłoki Nano
• Tytanowa powłoka
• Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
• Przepuszczalność światła: ≥ 45%
• Skuteczna redukcja odbić
• Japońskie szkło optyczne AGC
• Aluminiowo-magnezowa ramka
• Odporność na zacieki i tłuste plamy
• Łatwe czyszczenie
• Podwójne gwintowanie
• Grubość: 5,3 mm
• Średnica: 82 mm

Zastosowanie

Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny CPL MRC K&F Concept Nano-X to niezawodne akcesorium w pracy każdego fotografa specjalizującego się w zdjęciach krajobrazowych czy produktowych. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach niemetalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. Wytrzymały i starannie wykonany może towarzyszyć nam na każdym plenerze i planie zdjęciowym!