Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 95mm
- zapytaj o produkt
- poleć znajomemu
- dodaj opinię
- EAN: 6942052515894
Opis
Wykonany z dbałością o szczegóły filtr polaryzacyjny MRC CPL (Circular Polarizing Filter) K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection to jeden z podstawowych elementów wyposażenia każdego twórcy foto-video. Umożliwia precyzyjną kontrolę nad światłem, rejestrowanie na zdjęciach większej ilości szczegółów oraz wydobycie nasyconych, żywych barw otoczenia. Przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 95 mm posiadających standardowe gwintowanie.
Do produkcji filtra użyto wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC pokrytego licznymi powłokami nano oraz warstwą tytanową. Technologia MRC (Multi Resistant Coating) zabezpiecza soczewkę przed zarysowaniami, powstawaniami odprysków, osadzającymi się zaciekami z wody oraz plamami z oleju. Filtr skutecznie redukuje odblaski (≤ 0,1%) i zapewnia przepuszczalność światła na poziomie 45%.
Filtr eliminuje aż 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu. Umożliwia to m.in. redukcję odbić powstających na wodzie, szkle, czy powierzchniach niemetalicznych. Jego obrotowa konstrukcja, składająca się z dwóch nakręconych na siebie pierścieni, pozwala na szybką i precyzyjną zmianę położenia polaryzatorów, a tym samym na odcięcie dopływu fal o wybranej długości.
Ramka filtra została wykonana ze stopu magnezu i aluminium. Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów. Profilowane wgłębienia ułatwiają wykonywanie precyzyjnych obrotów. Oprawa cechuje się niskim profilem (5,3 mm), co przekłada się na dobrą współpracę z obiektywami szerokokątnymi.
Cechy
- Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
- Antyrefleksyjne powłoki Nano
- Tytanowa powłoka
- Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
- Przepuszczalność światła: ≥ 45%
- Skuteczna redukcja odbić
- Japońskie szkło optyczne AGC
- Aluminiowo-magnezowa ramka
- Odporność na zacieki i tłuste plamy
- Łatwe czyszczenie
- Podwójne gwintowanie
- Grubość: 5,3 mm
- Średnica: 95 mm
Zastosowanie
K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection to wielopowłokowy filtr polaryzacyjny który spełni oczekiwania najbardziej wymagających użytkowników. Doskonale spisze się podczas fotografowania krajobrazów, architektury, produktów czy potraw. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne i zwiększa kontrast oraz nasycenie barw. To zaawansowane i użyteczne akcesorium, które sprawdzi się w niemal każdym scenariuszu!
Dane techniczne
Rodzaj | Polaryzacyjny (CPL) |
Materiał | Aluminium, magnez, szkło optyczne |
Sposób montażu | Filtr wkręcany (gwintowany) |
Średnica | 95 mm |
Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.