Darmowa dostawa paczkomatem od 99 zł

Filtr ultrafioletowy 43mm Nano-X MRC UV Ultra-low Reflection K&F Concept

Dostępność: Dostępny
Wysyłka w: 24 godziny
Dostawa: Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności sprawdź formy dostawy
Cena: 111,99 zł 111.99
ilość szt.

towar niedostępny

dodaj do przechowalni
Ocena: 0
Producent: K&F Concept
Kod produktu: KF012458

Opis

Filtr UV Ultra-low Reflection K&F Concept z serii Nano-X skutecznie redukuje dopływ promieniowania ultrafioletowego, zabezpiecza układ optyczny obiektywu przed uszkodzeniami mechanicznymi oraz zanieczyszczeniami w postaci pyłu, kurzu czy wilgoci. Jest przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 43 mm.

Soczewka filtra została wykonana z wysokiej jakości szkła optycznego z wielowarstwową powłoką MRC (Multi Resistant Coating), która skutecznie redukuje odblaski (≤ 0,1%). Zapewnia niezakłócony przekaz obrazu przy zachowaniu naturalności barw i jednoczesnym zwiększeniu ich intensywności oraz kontrastu. Dodatkowe utwardzenie chroni przed powstawaniem odprysków i sprawia, że powierzchnia filtra jest odporna na zarysowania. Ponadto, powlekaną tytanem soczewkę wyróżnia doskonała przepuszczalność światła na poziomie ≥ 99,8%. Filtr K&F Concept cechuje się również wysokim stopniem odporności na wodę i tłuszcz. Dzięki temu na jego powierzchni nie powstają zacieki, a wszelkie zanieczyszczenia – takie jak odciski palców – osadzają się znacznie trudniej i są łatwe do usunięcia.

Ramka montażowa filtra została wykonana z aluminium. Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów. Oprawa charakteryzuje się bardzo niskim profilem (3,3 mm), dzięki czemu filtr może być wykorzystywany również z obiektywami szerokokątnymi.





Cechy

  • Wielopowłokowy filtr MRC UV
  • Antyrefleksyjne powłoki Nano
  • Tytanowa powłoka
  • Skuteczna redukcja promieniowania ultrafioletowego
  • Przepuszczalność światła: ≥ 99,8%
  • Szkło optyczne
  • Aluminiowa ramka
  • Odporność na zacieki i tłuste plamy
  • Łatwe czyszczenie
  • Podwójne gwintowanie
  • Grubość: 3,3 mm
  • Średnica: 43 mm



Zastosowanie

Filtry MRC UV są stosowane w celu ochrony obiektywu przed dopływem promieniowania ultrafioletowego, które może powodować powstawanie nieostrości, zmniejszenie kontrastu i utratę szczegółów na zdjęciach. Filtr K&F Concept Ultra-low Reflection Nano-X umożliwia poprawę jakości obrazu poprzez redukcję efektu zamglenia atmosferycznego oraz eliminację niekorzystnych odblasków. Tworzy on ponadto dodatkową barierę, która chroni soczewkę obiektywu przed kurzem i pyłem, zabrudzeniami, czy uszkodzeniami mechanicznymi. Stanowi niezbędny dodatek dla każdego fotografa, który dba o jakość obrazu i o trwałość swojego sprzętu.

Dane techniczne

Rodzaj Ultrafioletowy (UV)
Materiał Aluminium, szkło optyczne
Sposób montażu Filtr wkręcany (gwintowany)
Średnica 43 mm

Bezpieczeństwo

Koszty dostawy Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności

Kraj wysyłki:

Produkty powiązane

Opinie o produkcie (0)

Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.

do góry
Sklep jest w trybie podglądu
Pokaż pełną wersję strony
Sklep internetowy Shoper Premium