Filtr ultrafioletowy 43mm Nano-X MRC UV Ultra-low Reflection K&F Concept
- zapytaj o produkt
- poleć znajomemu
- dodaj opinię
- EAN: 5904647821897
Opis
Filtr UV Ultra-low Reflection K&F Concept z serii Nano-X skutecznie redukuje dopływ promieniowania ultrafioletowego, zabezpiecza układ optyczny obiektywu przed uszkodzeniami mechanicznymi oraz zanieczyszczeniami w postaci pyłu, kurzu czy wilgoci. Jest przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 43 mm.
Soczewka filtra została wykonana z wysokiej jakości szkła optycznego z wielowarstwową powłoką MRC (Multi Resistant Coating), która skutecznie redukuje odblaski (≤ 0,1%). Zapewnia niezakłócony przekaz obrazu przy zachowaniu naturalności barw i jednoczesnym zwiększeniu ich intensywności oraz kontrastu. Dodatkowe utwardzenie chroni przed powstawaniem odprysków i sprawia, że powierzchnia filtra jest odporna na zarysowania. Ponadto, powlekaną tytanem soczewkę wyróżnia doskonała przepuszczalność światła na poziomie ≥ 99,8%. Filtr K&F Concept cechuje się również wysokim stopniem odporności na wodę i tłuszcz. Dzięki temu na jego powierzchni nie powstają zacieki, a wszelkie zanieczyszczenia – takie jak odciski palców – osadzają się znacznie trudniej i są łatwe do usunięcia.
Ramka montażowa filtra została wykonana z aluminium. Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów. Oprawa charakteryzuje się bardzo niskim profilem (3,3 mm), dzięki czemu filtr może być wykorzystywany również z obiektywami szerokokątnymi.
Cechy
- Wielopowłokowy filtr MRC UV
- Antyrefleksyjne powłoki Nano
- Tytanowa powłoka
- Skuteczna redukcja promieniowania ultrafioletowego
- Przepuszczalność światła: ≥ 99,8%
- Szkło optyczne
- Aluminiowa ramka
- Odporność na zacieki i tłuste plamy
- Łatwe czyszczenie
- Podwójne gwintowanie
- Grubość: 3,3 mm
- Średnica: 43 mm
Zastosowanie
Filtry MRC UV są stosowane w celu ochrony obiektywu przed dopływem promieniowania ultrafioletowego, które może powodować powstawanie nieostrości, zmniejszenie kontrastu i utratę szczegółów na zdjęciach. Filtr K&F Concept Ultra-low Reflection Nano-X umożliwia poprawę jakości obrazu poprzez redukcję efektu zamglenia atmosferycznego oraz eliminację niekorzystnych odblasków. Tworzy on ponadto dodatkową barierę, która chroni soczewkę obiektywu przed kurzem i pyłem, zabrudzeniami, czy uszkodzeniami mechanicznymi. Stanowi niezbędny dodatek dla każdego fotografa, który dba o jakość obrazu i o trwałość swojego sprzętu.
Dane techniczne
Rodzaj | Ultrafioletowy (UV) |
Materiał | Aluminium, szkło optyczne |
Sposób montażu | Filtr wkręcany (gwintowany) |
Średnica | 43 mm |
Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.