Filtr ultrafioletowy 58mm Nano-X MRC UV Ultra-low Reflection K&F Concept

Filtr MRC UV K&F Concept z serii Ultra-low Reflection Nano-X to wysokiej jakości akcesorium przeznaczone do montażu na obiektywach o średnicy 58 mm. Skutecznie redukuje dopływ promieniowania ultrafioletowego, zwiększa przejrzystość ujęcia oraz zabezpiecza układ optyczny przed uszkodzeniami mechanicznymi, kurzem i wilgocią.

Soczewka filtra została wykonana ze szkła optycznego pokrytego wielowarstwową powłoką MRC (Multi Resistant Coating). Zastosowane powłoki skutecznie redukują odblaski (≤ 0,1%), zapewniają naturalne barwy oraz lekko podkreślają ich intensywność oraz kontrast. Dodatkowe utwardzenie chroni przed powstawaniem odprysków i zarysowań. Filtr jest zabezpieczony przed wodą i tłuszczem. Ponadto, powlekana tytanem soczewka charakteryzuje się niemal doskonałą przepuszczalnością światła (≥ 99,8%).

Ramka montażowa filtra została wykonana z aluminium. Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów, takich jak inne filtry, czy osłony przeciwsłoneczne. Oprawa charakteryzuje się niskim profilem (3,3 mm), dzięki czemu filtr może być wykorzystywany również z obiektywami szerokokątnymi.

Cechy

• Wielopowłokowy filtr MRC UV
• Antyrefleksyjne powłoki Nano
• Tytanowa powłoka
• Skuteczna redukcja promieniowania ultrafioletowego
• Przepuszczalność światła: ≥ 99,8%
• Szkło optyczne
• Aluminiowa ramka
• Odporność na zacieki i tłuste plamy
• Łatwe czyszczenie
• Podwójne gwintowanie
• Grubość: 3,3 mm
• Średnica: 58 mm

Zastosowanie

Filtr UV stanowi podstawowy element wyposażenia fotografów i filmowców. Doskonale spisuje się podczas pracy w plenerze, szczególnie nad morzem oraz w górach, gdzie obraz bardzo często jest narażony na zamglenie i utratę jakości. Filtr Ultra-low Reflection Nano-X posiada specjalne powłoki nieprzepuszczające promieni UV, redukujące charakterystyczny, błękitny zafarb oraz chroniące soczewkę przed zanieczyszczeniami. Postaw na jakość i wygodę pracy razem z K&F Concept!