Filtr ultrafioletowy 62mm Nano-X MRC UV Ultra-low Reflection K&F Concept

MRC UV K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection to wysokiej jakości filtr ultrafioletowy o średnicy 62 mm. Skutecznie redukuje dopływ promieniowania UV oraz zabezpiecza układ optyczny przed uszkodzeniami mechanicznymi, niekorzystnym wpływem czynników zewnętrznych, kurzem, pyłem i wilgocią.

Szklana soczewka została pokryta wielowarstwową powłoką MRC (Multi Resistant Coating), która skutecznie redukuje odblaski (≤ 0,1%). Zapewnia niezakłócony przekaz obrazu przy zachowaniu naturalności barw i przy jednoczesnym zwiększeniu ich intensywności oraz kontrastu. Dodatkowe utwardzenie chroni przed powstawaniem zarysowań oraz zapobiega powstawaniu plam z wody czy oleju. Ponadto, powlekana tytanem soczewka cechuje się doskonałą przepuszczalnością światła na poziomie ≥ 99,8%.

Oprawa filtra została wykonana z aluminium i posiada podwójne gwintowanie. Charakteryzuje się bardzo niskim profilem (3,3 mm), dzięki czemu filtr może być wykorzystywany również z obiektywami szerokokątnymi.

Cechy

• Wielopowłokowy filtr MRC UV
• Antyrefleksyjne powłoki Nano
• Tytanowa powłoka
• Skuteczna redukcja promieniowania ultrafioletowego
• Przepuszczalność światła: ≥ 99,8%
• Szkło optyczne
• Aluminiowa ramka
• Odporność na zacieki i tłuste plamy
• Łatwe czyszczenie
• Podwójne gwintowanie
• Grubość: 3,3 mm
• Średnica: 62 mm

Zastosowanie

Filtry MRC UV są stosowane w celu ochrony obiektywu przed dopływem promieniowania ultrafioletowego, które może zaburzać przejrzystość ujęcia i oryginalną kolorystykę kadru. K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection umożliwia poprawę jakości obrazu poprzez redukcję efektu zamglenia atmosferycznego oraz eliminację niekorzystnych odblasków. Tworzy także dodatkową barierę, która chroni soczewkę obiektywu przed kurzem i pyłem, zabrudzeniami i uszkodzeniami mechanicznymi. Stanowi niezbędny dodatek dla każdego fotografa, który dba o jakość obrazu i o trwałość swojego sprzętu.