Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 49mm

Odkryj nowy wymiar fotografii wraz z filtrem CPL (Circular Polarizing Filter) K&F Concept Ultra-low Reflection Nano-X. To niezastąpiony element niemal każdego zestawu fotograficznego, który umożliwia precyzyjną kontrolę nad światłem i tworzenie zdjęć pełnych szczegółów z doskonale odwzorowanymi kolorami. Jest przeznaczony do bezpośredniego montażu na obiektywach o średnicy 49 mm.

Filtr Ultra-low Reflection Nano-X wykonany jest z wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC, które zostało pokryte wielowarstwową, wzbogaconą o wykorzystanie tytanu, powłoką MRC (Multi Resistant Coating). Przekłada się to na ochronę soczewki przed zarysowaniami, zwiększoną odporność na wodę i tłuszcz, skuteczną redukcję odblasków (≤ 0,1%) oraz wysoką przepuszczalność światła na poziomie 45%.

Zastosowana w produkcji technologia sprawia, że filtr eliminuje aż 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu. W praktyce umożliwia rejestrację o wiele większej ilości szczegółów niewidocznych dla ludzkiego oka. Jego obrotowa konstrukcja, składająca się z dwóch nakręconych na siebie pierścieni, pozwala na szybką i precyzyjną zmianę układu polaryzatorów, a tym samym skuteczne odcięcie fal o wybranej długości.

Ramka montażowa została wykonana ze stopu magnezu i aluminium. Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów, takich jak inne filtry czy osłony przeciwsłoneczne. Gęste radełkowanie ułatwia posługiwanie się filtrem, jego montaż i demontaż. Ramka cechuje się niskim profilem (5,3 mm), co pozwala na łączenie filtra także z obiektywami szerokokątnymi.

Cechy

• Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
• Antyrefleksyjne powłoki Nano
• Tytanowa powłoka
• Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
• Przepuszczalność światła: ≥ 45%
• Skuteczna redukcja odbić
• Japońskie szkło optyczne AGC
• Aluminiowo-magnezowa ramka
• Odporność na zacieki i tłuste plamy
• Łatwe czyszczenie
• Podwójne gwintowanie
• Grubość: 5,3 mm
• Średnica: 49 mm

Zastosowanie

Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny CPL MRC Ultra-low Reflection Nano-X K&F Concept stanowi funkcjonalne i wszechstronne narzędzie, które dzięki doskonałej jakości wykonania spełnia najwyższe standardy branżowe. Znajduje swoje zastosowanie w wielu rozmaitych dziedzinach fotografii, takich jak fotografia krajobrazowa, architektoniczna, motoryzacyjna, czy produktowa. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach niemetalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. To zaawansowane i użyteczne akcesorium, które sprawdzi się w niemal dowolnym scenariuszu!