Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 49mm

kf-cpl-titan-01.jpg
  • nowość
Dostępność: Dostępny
Wysyłka w: 24 godziny
Dostawa: Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności sprawdź formy dostawy
Cena: 129,00 zł 129.00
ilość szt.

towar niedostępny

dodaj do przechowalni
Ocena: 0
Producent: K&F Concept
Kod produktu: KF012473

Opis

Odkryj nowy wymiar fotografii wraz z filtrem CPL (Circular Polarizing Filter) K&F Concept Ultra-low Reflection Nano-X. To niezastąpiony element niemal każdego zestawu fotograficznego, który umożliwia precyzyjną kontrolę nad światłem i tworzenie zdjęć pełnych szczegółów z doskonale odwzorowanymi kolorami. Jest przeznaczony do bezpośredniego montażu na obiektywach o średnicy 49 mm.

Filtr Ultra-low Reflection Nano-X wykonany jest z wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC, które zostało pokryte wielowarstwową, wzbogaconą o wykorzystanie tytanu, powłoką MRC (Multi Resistant Coating). Przekłada się to na ochronę soczewki przed zarysowaniami, zwiększoną odporność na wodę i tłuszcz, skuteczną redukcję odblasków (≤ 0,1%) oraz wysoką przepuszczalność światła na poziomie 45%.

Zastosowana w produkcji technologia sprawia, że filtr eliminuje aż 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu. W praktyce umożliwia rejestrację o wiele większej ilości szczegółów niewidocznych dla ludzkiego oka. Jego obrotowa konstrukcja, składająca się z dwóch nakręconych na siebie pierścieni, pozwala na szybką i precyzyjną zmianę układu polaryzatorów, a tym samym skuteczne odcięcie fal o wybranej długości.

Ramka montażowa została wykonana ze stopu magnezu i aluminium. Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów, takich jak inne filtry czy osłony przeciwsłoneczne. Gęste radełkowanie ułatwia posługiwanie się filtrem, jego montaż i demontaż. Ramka cechuje się niskim profilem (5,3 mm), co pozwala na łączenie filtra także z obiektywami szerokokątnymi.



Cechy

  • Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
  • Antyrefleksyjne powłoki Nano
  • Tytanowa powłoka
  • Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
  • Przepuszczalność światła: ≥ 45%
  • Skuteczna redukcja odbić
  • Japońskie szkło optyczne AGC
  • Aluminiowo-magnezowa ramka
  • Odporność na zacieki i tłuste plamy
  • Łatwe czyszczenie
  • Podwójne gwintowanie
  • Grubość: 5,3 mm
  • Średnica: 49 mm



Zastosowanie

Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny CPL MRC Ultra-low Reflection Nano-X K&F Concept stanowi funkcjonalne i wszechstronne narzędzie, które dzięki doskonałej jakości wykonania spełnia najwyższe standardy branżowe. Znajduje swoje zastosowanie w wielu rozmaitych dziedzinach fotografii, takich jak fotografia krajobrazowa, architektoniczna, motoryzacyjna, czy produktowa. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach niemetalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. To zaawansowane i użyteczne akcesorium, które sprawdzi się w niemal dowolnym scenariuszu!

Dane techniczne

Rodzaj Polaryzacyjny (CPL)
Materiał Aluminium, magnez, szkło optyczne
Sposób montażu Filtr wkręcany (gwintowany)
Średnica 49 mm

Koszty dostawy Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności

Kraj wysyłki:

Produkty powiązane

Opinie o produkcie (0)

Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.

do góry
Sklep jest w trybie podglądu
Pokaż pełną wersję strony
Sklep internetowy Shoper Premium