Darmowa dostawa paczkomatem od 99 zł

Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 49mm

Dostępność: Chwilowo brak
Cena: 123,00 zł 123.00
ilość szt.

towar niedostępny

dodaj do przechowalni
Ocena: 5
Producent: K&F Concept
Kod produktu: KF012473

Opis

Odkryj nowy wymiar fotografii wraz z filtrem CPL (Circular Polarizing Filter) K&F Concept Ultra-low Reflection Nano-X. To niezastąpiony element niemal każdego zestawu fotograficznego, który umożliwia precyzyjną kontrolę nad światłem i tworzenie zdjęć pełnych szczegółów z doskonale odwzorowanymi kolorami. Jest przeznaczony do bezpośredniego montażu na obiektywach o średnicy 49 mm.

Filtr Ultra-low Reflection Nano-X wykonany jest z wysokiej klasy japońskiego szkła optycznego AGC, które zostało pokryte wielowarstwową, wzbogaconą o wykorzystanie tytanu, powłoką MRC (Multi Resistant Coating). Przekłada się to na ochronę soczewki przed zarysowaniami, zwiększoną odporność na wodę i tłuszcz, skuteczną redukcję odblasków (≤ 0,1%) oraz wysoką przepuszczalność światła na poziomie 45%.

Zastosowana w produkcji technologia sprawia, że filtr eliminuje aż 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu. W praktyce umożliwia rejestrację o wiele większej ilości szczegółów niewidocznych dla ludzkiego oka. Jego obrotowa konstrukcja, składająca się z dwóch nakręconych na siebie pierścieni, pozwala na szybką i precyzyjną zmianę układu polaryzatorów, a tym samym skuteczne odcięcie fal o wybranej długości.

Ramka montażowa została wykonana ze stopu magnezu i aluminium. Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów, takich jak inne filtry czy osłony przeciwsłoneczne. Gęste radełkowanie ułatwia posługiwanie się filtrem, jego montaż i demontaż. Ramka cechuje się niskim profilem (5,3 mm), co pozwala na łączenie filtra także z obiektywami szerokokątnymi.





Cechy

  • Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
  • Antyrefleksyjne powłoki Nano
  • Tytanowa powłoka
  • Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
  • Przepuszczalność światła: ≥ 45%
  • Skuteczna redukcja odbić
  • Japońskie szkło optyczne AGC
  • Aluminiowo-magnezowa ramka
  • Odporność na zacieki i tłuste plamy
  • Łatwe czyszczenie
  • Podwójne gwintowanie
  • Grubość: 5,3 mm
  • Średnica: 49 mm





Zastosowanie

Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny CPL MRC Ultra-low Reflection Nano-X K&F Concept stanowi funkcjonalne i wszechstronne narzędzie, które dzięki doskonałej jakości wykonania spełnia najwyższe standardy branżowe. Znajduje swoje zastosowanie w wielu rozmaitych dziedzinach fotografii, takich jak fotografia krajobrazowa, architektoniczna, motoryzacyjna, czy produktowa. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach niemetalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. To zaawansowane i użyteczne akcesorium, które sprawdzi się w niemal dowolnym scenariuszu!





Dane techniczne

Rodzaj Polaryzacyjny (CPL)
Materiał Aluminium, magnez, szkło optyczne
Sposób montażu Filtr wkręcany (gwintowany)
Średnica 49 mm

Bezpieczeństwo

Produkty powiązane

Opinie o produkcie (0)

Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.

do góry
Sklep internetowy Shoper Premium