Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 58mm

kf-cpl-titan-01.jpg
  • nowość
Dostępność: Dostępny
Wysyłka w: 24 godziny
Dostawa: Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności sprawdź formy dostawy
Cena: 149,00 zł 149.00
ilość szt.

towar niedostępny

dodaj do przechowalni
Ocena: 0
Producent: K&F Concept
Kod produktu: KF012476

Opis

Odkryj nowe możliwości fotografii dzięki filtrowi CPL (Circular Polarizing Filter) z serii Nano-X Ultra-low Reflection. Zaprojektowany przez K&F Concept stanowi podstawowy element każdego zestawu akcesoriów fotograficznych. Zapewnia większą kontrolę nad światłem i kolorami, umożliwiając tworzenie pełnych szczegółów zdjęć, cechujących się doskonałym kontrastem i naturalnym odwzorowaniem barw. Filtr jest przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 58 mm posiadających standardowe gwintowanie.

Filtry serii Ultra-low Reflection są wykonane z japońskiego szkła optycznego AGC, które w procesie produkcji pokryte zostaje wielowarstwową, wzbogaconą o wykorzystanie tytanu, powłoką MRC (Multi Resistant Coating) zabezpieczającą soczewkę przed zarysowaniami i powstawaniem odprysków. Zwiększona odporność na wodę i tłuszcz sprawia, że na powierzchni filtrów nie pozostają zacieki, a wszystkie drobne zanieczyszczenia są łatwe do usunięcia. Powłoka MRC skutecznie redukuje odblaski (≤ 0,1%) i zapewnia wysoki stopień transmisji światła (≥ 45%).

Technologia produkcji sprawia, że filtr eliminuje aż 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu. Korzystanie z filtra CPL umożliwia m.in. redukcję odbić powstających na szkle, wodzie czy innych powierzchniach niemetalicznych. Jego obrotowa konstrukcja, składająca się z dwóch nakręconych na siebie pierścieni, pozwala na szybką i precyzyjną zmianę położenia polaryzatorów, a tym samym na niemal natychmiastowe odcięcie dopływu fal o wybranej długości.

Ramka montażowa została wykonana z wytrzymałego stopu magnezu i aluminium. Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów. Profilowane wgłębienia ułatwiają wykonywanie precyzyjnych obrotów. Oprawa cechuje się niskim profilem (5,3 mm), dzięki czemu filtr K&F Concept może być stosowany także z obiektywami szerokokątnymi.



Cechy

  • Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
  • Antyrefleksyjne powłoki Nano
  • Tytanowa powłoka
  • Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
  • Przepuszczalność światła: ≥ 45%
  • Skuteczna redukcja odbić
  • Japońskie szkło optyczne AGC
  • Aluminiowo-magnezowa ramka
  • Odporność na zacieki i tłuste plamy
  • Łatwe czyszczenie
  • Podwójne gwintowanie
  • Grubość: 5,3 mm
  • Średnica: 58 mm



Zastosowanie

Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny CPL MRC K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection stanowi narzędzie, które znajduje swoje zastosowanie w wielu rozmaitych dziedzinach fotografii. Będzie niezastąpionym pomocnikiem w fotografii krajobrazowej, architektonicznej, motoryzacyjnej czy produktowej. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach niemetalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. To produkt, który powinien znaleźć się w plecaku każdego fotografa! Nie zapomnij zabrać go ze sobą!

Dane techniczne

Rodzaj Polaryzacyjny (CPL)
Materiał Aluminium, magnez, szkło optyczne
Sposób montażu Filtr wkręcany (gwintowany)
Średnica 58 mm

Koszty dostawy Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności

Kraj wysyłki:

Produkty powiązane

Opinie o produkcie (0)

Publikowane są wszystkie opinie (pozytywne oraz negatywne). Przed ich udostępnieniem weryfikujemy, czy opinia pochodzi od Klienta, który zakupił dany produkt.

do góry
Sklep jest w trybie podglądu
Pokaż pełną wersję strony
Sklep internetowy Shoper Premium