Filtr polaryzacyjny MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 58mm

Odkryj nowe możliwości fotografii dzięki filtrowi CPL (Circular Polarizing Filter) z serii Nano-X Ultra-low Reflection. Zaprojektowany przez K&F Concept stanowi podstawowy element każdego zestawu akcesoriów fotograficznych. Zapewnia większą kontrolę nad światłem i kolorami, umożliwiając tworzenie pełnych szczegółów zdjęć, cechujących się doskonałym kontrastem i naturalnym odwzorowaniem barw. Filtr jest przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 58 mm posiadających standardowe gwintowanie.

Filtry serii Ultra-low Reflection są wykonane z japońskiego szkła optycznego AGC, które w procesie produkcji pokryte zostaje wielowarstwową, wzbogaconą o wykorzystanie tytanu, powłoką MRC (Multi Resistant Coating) zabezpieczającą soczewkę przed zarysowaniami i powstawaniem odprysków. Zwiększona odporność na wodę i tłuszcz sprawia, że na powierzchni filtrów nie pozostają zacieki, a wszystkie drobne zanieczyszczenia są łatwe do usunięcia. Powłoka MRC skutecznie redukuje odblaski (≤ 0,1%) i zapewnia wysoki stopień transmisji światła (≥ 45%).

Technologia produkcji sprawia, że filtr eliminuje aż 99,9% promieni świetlnych o określonym spolaryzowaniu. Korzystanie z filtra CPL umożliwia m.in. redukcję odbić powstających na szkle, wodzie czy innych powierzchniach niemetalicznych. Jego obrotowa konstrukcja, składająca się z dwóch nakręconych na siebie pierścieni, pozwala na szybką i precyzyjną zmianę położenia polaryzatorów, a tym samym na niemal natychmiastowe odcięcie dopływu fal o wybranej długości.

Ramka montażowa została wykonana z wytrzymałego stopu magnezu i aluminium. Podwójne gwintowanie umożliwia jednoczesne stosowanie dodatkowych akcesoriów. Profilowane wgłębienia ułatwiają wykonywanie precyzyjnych obrotów. Oprawa cechuje się niskim profilem (5,3 mm), dzięki czemu filtr K&F Concept może być stosowany także z obiektywami szerokokątnymi.

Cechy

• Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny MRC CPL
• Antyrefleksyjne powłoki Nano
• Tytanowa powłoka
• Eliminacja spolaryzowanych fal do 99,9%
• Przepuszczalność światła: ≥ 45%
• Skuteczna redukcja odbić
• Japońskie szkło optyczne AGC
• Aluminiowo-magnezowa ramka
• Odporność na zacieki i tłuste plamy
• Łatwe czyszczenie
• Podwójne gwintowanie
• Grubość: 5,3 mm
• Średnica: 58 mm

Zastosowanie

Wielopowłokowy filtr polaryzacyjny CPL MRC K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection stanowi narzędzie, które znajduje swoje zastosowanie w wielu rozmaitych dziedzinach fotografii. Będzie niezastąpionym pomocnikiem w fotografii krajobrazowej, architektonicznej, motoryzacyjnej czy produktowej. Skutecznie eliminuje odblaski świetlne powstające na wodzie, szkle, czy różnego rodzaju powierzchniach niemetalicznych. Pozwala na podkreślenie kontrastu ujęć i na zwiększenie nasycenia barw. To produkt, który powinien znaleźć się w plecaku każdego fotografa! Nie zapomnij zabrać go ze sobą!