Filtr ultrafioletowy 52mm Nano-X MRC UV Ultra-low Reflection K&F Concept

Wielopowłokowy filtr ultrafioletowy K&F Concept Ultra-low Reflection Nano-X to praktyczne akcesorium zapewniające kompleksową ochronę obiektywu. Skutecznie redukuje dopływ promieniowania UV oraz zabezpiecza układ optyczny przed uszkodzeniami mechanicznymi czy niekorzystnym wpływem czynników zewnętrznych. Jest przeznaczony do montażu na obiektywach o średnicy 52 mm wyposażonych w tradycyjne gwintowanie.

Soczewka filtra została wykonana ze szkła optycznego pokrytego wielowarstwową powłoką MRC (Multi Resistant Coating). Warstwy ochronne skutecznie redukują odblaski (≤ 0,1%), poprawiają przejrzystość ujęcia oraz wiernie odwzorowują naturalne kolory otoczenia. Dodatkowe utwardzenie chroni przed powstawaniem odprysków i sprawia, że powierzchnia filtra jest odporna na zarysowania, zacieki z wody i tłuste plamy. Ponadto, powlekana tytanem soczewka cechuje się doskonałą przepuszczalnością światła na poziomie ≥ 99,8%.

Ramka montażowa filtra została wykonana z aluminium, a podwójne gwintowanie umożliwia korzystanie z dodatkowych akcesoriów. Ramka jest także bardzo cienka (3,3 mm), co ułatwia pracę z obiektywami szerokokątnymi.

Cechy

• Wielopowłokowy filtr MRC UV
• Antyrefleksyjne powłoki Nano
• Tytanowa powłoka
• Skuteczna redukcja promieniowania ultrafioletowego
• Przepuszczalność światła: ≥ 99,8%
• Szkło optyczne
• Aluminiowa ramka
• Odporność na zacieki i tłuste plamy
• Łatwe czyszczenie
• Podwójne gwintowanie
• Grubość: 3,3 mm
• Średnica: 52 mm

Zastosowanie

Filtry MRC UV są stosowane w celu ochrony obiektywu przed dopływem promieniowania ultrafioletowego, które może powodować powstawanie nieostrości, zmniejszenie kontrastu i utratę szczegółów na zdjęciach. Tworzą także fizyczną dodatkową barierę chroniącą soczewkę obiektywu przed kurzem, pyłem oraz uszkodzeniami mechanicznymi. Stanowią podstawowy i niezbędny element wyposażenia każdego fotografa, który dba o jakość obrazu i o trwałość swojego sprzętu.